真空管式爐廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材等領域的生產及實驗。
氣氛爐自然空氣隔熱式，輕巧易搬運。升溫速度快，升溫到1100℃約只需30分鐘內。爐內兩面輻射方式加熱，溫度分布均勻。溫度控制采用PID自動控制LED數字顯示。內部采用耐高溫陶瓷板，不易變形，外部采用鍍鋅加高溫烤漆美觀，不易掉漆。
真空氣氛爐的成分分析：
淡型放熱式氣氛：鋼的氧化處理。
濃型放熱式氣氛：光亮退火，燒結，銅焊。
淡型制備氮氣氛：中性加熱。
濃型制備氮氣氛：退火，不銹鋼釬焊。
淡型吸熱式氣氛：光亮淬火。
濃型吸熱式氣氛：滲碳。
木炭發生氣氛：滲碳。
淡型放-吸熱式氣氛：光亮淬火。
濃型放-吸熱式氣氛：滲碳。
氨分解氣氛：釬焊，燒結。
淡型氨燃燒氣氛：中性加熱。
濃型氨燃燒氣氛：不銹鋼粉末燒結。
真空氣氛爐的注意事項：
1．除了做實驗外，不要停留在高溫爐管區。
2．實驗工作完畢時，若無人繼續使用，請關特殊氣體，保留N2流動，爐管保持在standby溫度，并查看是否有其它電源該關而沒有關，如燈光、煮酸用的小電爐或其它，請隨手關掉。
3．處理HF時，請戴手套，如不小心碰到HF時，請立刻沖水，用葡萄酸鈣加2%之水，揉擦傷處15'。
4．石英玻璃制品請小心使用，以免破裂，引起嚴重割傷。
5．避免吸入從爐子或處理槽所冒出之各種氣體。
6．氰hua鉀(KCN)不可與酸類混置，因兩者可產生劇毒之KCN氣體。
7．一旦發現有妨礙安全之事物時，請立即通知有關人員。
8．請節約純水用量。
9．破晶片、濾紙、棉花棒等，請勿掉入清洗槽的底部排水孔，以免因排水不良造成地板漬水。
10．長短推桿之前端，在還沒使用到時，請朝上以免污染。
11．晶片進出爐口時，請勿碰觸爐管口，以免污染爐管。
